清洗甩干机

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清洗甩干机

作者：佚名甩干机来源：本站原创点击数：更新时间：2006-7-14

清洗甩干机详细说明：

一、用途：
该设备主要用于集成电路生产中硅片的清洗甩干工艺。
二、设备构成及特点：
该设备由工作室、花篮（转子）、传动系统、气液系统及电气控制系统构成、工作室和花篮均由不锈刚作，电化学抛光；花篮经动平衡试验，保证设备运转平稳。
三、主要技术指标及性能：
1．1个工作室、2个工位（同时放置2个片盒）
2．硅片规格4″～8″
3．无级调速、最高还转速2500rpm
4．过滤器过滤精度：0.2μm
5．热氨（N2）烘干、温度40~50℃
6．具有去离子水电阻率检测功能，电阻率大于18MΩ
7．具有静电消除功能，以提高清洗质量及清洗效率。
8．液晶全中文显示、可编程控制、可存储10个工艺程序。
9．参数监控（电导率、工艺步骤、转子转速和时间显示）
及机内故障诊断。电路、水路隔离、漏电保护、急停按
钮、运行安全。
10．工作条件：
电源：220Vac50Hz 功率：2KW
净化空气：压力：0.6Mpa 流量：2m3/h
净化氢气：压力：0.5 Mpa流量：10m3/h
去离子水：压力：0.3Mpa过滤精度：0.2μm 流量：0.6m3/h



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